钛靶材通过高纯度的钛材料加工制成。有着光泽的银白色外观，其熔点为1660℃，沸点为3287℃，密度为4.5g/cm3。钛靶材具有高纯度、高密度、高强度和耐腐蚀等特点。高性能钛溅射靶材,是实现电子信息制造业关键材料的自主研制和推动钛工业向高端转型升级的重要举措。
钛靶材特征
钛靶材形状：平面靶旋转靶异型定制
钛靶材纯度：2N7,4N,4N5,5N
钛靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
钛靶材制备工艺
选取钛原料（4N或者5N），采用真空熔炼的方法将钛原料熔融，并将熔汤浇铸，浇铸后的熔汤冷却形成铸锭坯料；
将铸锭坯料进行第一热处理，第一热处理的温度为450～650℃，保温时间0.5～2.5h，然后将保温热处理后的铸锭坯料进行热轧延或者空气锤锻打，形成第一钛坯；
对第一钛坯进行第二热处理，第二热处理的温度为350～550℃，保温时间为1～3h，然后将保温热处理后的第一钛坯进行热轧延或者空气锤锻打，形成第二钛坯；
对第二钛坯冷却到室温后，在室温的环境下对第二钛坯进行冷轧延，形成冷轧坯；
将冷轧所形成的冷轧坯做退火热处理，退火热处理温度为300～700℃，时间为1～5h，得到晶粒细小且均匀的钛靶坯，之后通过机床加工即得钛靶材。
该制备方法通过多次热处理，使得钛坯中的元素产生固态扩散，来减轻化学成分分布的不均匀性，减少靶材坯料的分层现象，缩小晶粒尺寸；同时可消除残余应力，稳定尺寸，减低硬度和脆性，增加其可塑性，减少变形与裂纹倾向。下图是钛溅射靶材典型的显微金相检测图片，平均粒径<100um。
钛靶材应用
钛靶材是一种重要的材料，主要用于制造半导体、光电子和磁性材料等高科技领域的材料。在半导体工业中，钛靶材可用于制造电子元件的制造，例如光电二极管、光电品体管、光电接收器和发射器等。在光电子领域，钛靶材可用于制造光电子器件，例如LED和太阳能电池等。在磁性材料领域，钛靶材可用于制造硬盘和磁卡等。
除了以上应用，钛靶材还广泛用于高温合金、导电材料、化学催化剂和医疗设备等领域，这些领域不仅需要高强度、耐腐蚀的材料，还需要稳定的化学性能和生物相容性。钛靶材正好满足这些要求，成为这些领域的重要材料之一。
