一、钛靶材的定义及特点
钛靶材是一种主要用于物理气相沉积（PVD）和磁控溅射（Magnetron Sputtering）技术的特殊材料。其中，PVD技术被广泛应用于高级涂层的生产，而磁控溅射则常见于半导体芯片和电子元器件的制造过程中。钛靶材以纯钛或钛合金为主要成分，经过精细制造而成。其独特的优点包括极高的硬度和密度，以及卓越的抗腐蚀性，这使得它在各种环境中都能保持稳定性。此外，钛靶材还拥有良好的热传导性和高纯度，为溅射薄膜技术提供了出色的性能。
钛靶材是通过真空熔炼-熔模铸造工艺制成的高纯钛或钛合金板坯材料。它最显著的特性是高纯度和优良的致密性。优质的钛靶材的致密度可以达到99.5%以上，且杂质元素极低，如Fe、Si、O、N、H等元素含量均小于100ppm。这使得钛靶材在物理性能和化学性能上都远超普通工业纯钛。
此外，钛靶材还具有卓越的均匀性。在制备过程中，采用了多次熔炼和淬火处理，有效改善了钛靶材的组织均匀性。靶材表面平滑光洁，内部组织致密，晶粒细小，这确保了沉积膜层的均匀性。钛靶材还拥有优良的热导电性和较小的热应力，使其不易产生开裂，能够承受高功率的溅射或电弧蒸发过程。此外，钛靶材的机械强度高，能有效提高使用寿命，降低靶材损耗，从而提高了其整体性能和使用价值。
钛方靶、钛圆靶
二、钛靶材的常见用途
磁控溅射:
制备光学镀膜,如用于眼镜片的抗反射膜、镜片的增透膜等。
制备钛基磁记录,用于计算机硬盘等数据存储。
制备钛基导电膜,用于LCD显示屏的电极。
激光溅射:
制备机械部件的表面硬化层,提高抗磨性。
制备生物医用钛合金材料的表面涂层,提高生物相容性。
电弧蒸发:
制备太阳能电池的前电极透明导电膜。
制备复合材料的钛基增强层。
电子束蒸发:
制备金红石太阳能电池的背电极。
制备光伏器件用的抗反射膜和钝化膜。
制备汽车减震器的涂层。
离子镀膜:
制备齿科和整形外科钛合金植入物的生物活性涂层,提高骨与植入物的结合力。
制备汽车发动机活塞的耐磨防腐蚀涂层。
制备金属切削工具的表面硬化层,提高切削性能。
化学镀膜:
制备电子电路板的导电互连层。
制备汽车装饰件的提光镀膜。
制备光学元件的高反射率镀膜。
原子层沉积法(ALD):
制备新型存储器如铜互连的扩散阻隔层。
制备图像传感器的光学滤波片。
制备太阳能电池的表面层。
